真空彩色鍍鋁膜-華福包裝(在線咨詢)-真空彩色鍍鋁膜批發：

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真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發和離子濺射。真空蒸發鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環境中，用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發的材料加熱到一定溫度，使材料中分子或原子的熱振動能量超過表面的束縛能，從而使大量分子或原子蒸發或升華，并直接沉淀在基片上形成薄膜。離子濺射鍍膜是利用氣體放電產生的正離子在電場的作用下的高速運動轟擊作為陰極的靶，使靶材中的原子或分子逸出來而沉淀到被鍍工件的表面，形成所需要的薄膜。

真空蒸發鍍膜常用的是電阻加熱法，其優點是加熱源的結構簡單，造價低廉，操作方便；缺點是不適用于難熔金屬和耐高溫的介質材料。電子束加熱和激光加熱則能克服電阻加熱的缺點。電子束加熱上利用聚焦電子束直接對被轟擊材料加熱，電子束的動能變成熱能，使材料蒸發。激光加熱是利用大功率的激光作為加熱源，但由于大功率激光器的造價很高，目前只能在少數研究性實驗室中使用。

濺射技術與真空蒸發技術有所不同。“濺射”是指荷能粒子轟擊固體表面（靶），真空彩色鍍鋁膜電話，使固體原子或分子從表面射出的現象。射出的粒子大多呈原子狀態，常稱為濺射原子。用于轟擊靶的濺射粒子可以是電子，離子或中性粒子，因為離子在電場下易于加速獲得所需要動能，因此大都采用離子作為轟擊粒子。濺射過程建立在輝光放電的基礎上，即濺射離子都來源于氣體放電。不同的濺射技術所采用的輝光放電方式有所不同。直流二極濺射利用的是直流輝光放電；三極濺射是利用熱陰極支持的輝光放電；射頻濺射是利用射頻輝光放電；磁控濺射是利用環狀磁場控制下的輝光放電。濺射鍍膜與真空蒸發鍍膜相比，有許多優點。如任何物質均可以濺射，尤其是高熔點，低蒸氣壓的元素和化合物；濺射膜與基板之間的附著性好；薄膜密度高；膜厚可控制和重復性好等。缺點是設備比較復雜，需要高壓裝置。此外，將蒸發法與濺射法相結合，即為離子鍍。這種方法的優點是得到的膜與基板間有極強的附著力，有較高的沉積速率，膜的密度高。

鍍鋁膜的鋁層附著力檢測

要檢測鍍鋁膜的鋁層附著力，首先確認鍍鋁面。通常實用的方法用手指輕輕的在薄膜的正反面劃一下.膜面一般不會有明顯的劃痕。鋁層面會因為外力的摩擦產生很明顯的劃痕。

鍍鋁層附著牢度通常的檢測方法是膠帶檢測法，即將長15－20cm ，真空彩色鍍鋁膜廠家，寬0.5-1 inch的3M 膠帶貼合在鍍鋁薄膜的鍍鋁層上并將其壓平，然后以均勻的速度將膠帶剝離，觀察并估計鍍鋁層被剝離的面積，面積小于10%為一級、小于30%為二級、大于30%為三級。

膠帶檢測法只是一種定性的檢測方法，只適合于一般的定性比較，如果鍍鋁層的附著牢度超過膠帶的粘結力，則分別不出鍍鋁層附著牢度的差別。現在常用的定量檢測方法是在一定的溫度、壓力和時間下，用EAA薄膜（厚度20－50um，AA含量一般在9%左右）與鍍鋁膜的鍍鋁層進行熱封，將熱封后的樣品裁成15mm寬，在拉力試驗機上進行剝離試驗，觀察并記錄剝離力的大小以及鍍鋁層被剝離的面積。

真空彩色鍍鋁膜特點：

鍍鋁層的附著力強，亮度較好，有良好的阻隔作用

1.適宜的阻隔性與滲透性好—包括阻氣包裝、防潮包裝、防水包裝、保香包裝。易于包裝因氧氣、水分作用而氧化變質、發霉腐爛的食品等材料。化學穩定性好，

2.對一般的酸、堿、鹽等介質有良好的抗耐能力，較之金屬包裝有很強的優勢。光學性能優良，具有很好的透明性可以清楚地看內裝物，起到良好的展示、促銷效果。

3.還能染上美麗的圖形、印刷上裝潢圖案。還可以高速自動成型、灌裝、熱封，生產。

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